三星顯示器和LG顯示器正在考慮引入有關ALD（原子層沉積）技術Ø柔性OLED薄膜封裝工藝。他們倆已經合作了他們的合作伙伴對設備和檢驗設備ALD內部。因為當使用ALD技術保護的有機材料的氧和水增加的影響，生活和靈活的OLED面板的性能可以提高整體。
據了解，三星顯示器和LG顯示器正在準備推出ALD技術，柔性OLED工藝。WONIKIPS，AP系統和TES對顯示器ALD技術和設備。LG顯示器已經完成了ALD做研究，并已開始開發引進ALD技術，柔性OLED工藝而三星顯示器正在迅速引進ALD技術。
盡管兩家公司都做完的ALD技術的研發，他們感到對實際引進ALD技術作為他們正在積極投資于柔性OLED設施的可能性。他們完成了在做研發，并已進入了開發階段ALD技術商業化。
OLED，這是一種有機材料的缺點是，它是對水和氧的弱。為了保護OLED，薄膜覆蓋在OLED的多次頂保護OLED水和氧氣。盡管這是用于保護OLED薄膜數目是面板制造商之間不同，它們使用覆蓋的OLED與有機薄膜和無機薄膜或者約3至5倍的方法。
通常PECVD（等離子體增強化學氣相沉積），濺射和而Kateeva的噴墨印刷技術用于有機薄膜沉積的ALD技術，可用于無機薄膜封裝。無論三星顯示器和LG顯示器使用PECVD技術形成無機薄膜。
一個原因是他們最近考慮引進，而不是PECVD技術ALD是因為改善生活和靈活的有機發光二極管性能的重要性已變得更大。事實上，雖然柔性OLED的需求正在提高生產率正在下降也是另一個問題。
ALD技術是CVD（化學氣相沉積）中的一個。它注入原料包括的ALD金屬和反應氣體交替地和形式在原子水平上的薄膜。它可以把細薄膜具有高度均勻成的人具有較大的地區。如果它與MLD（分子層沉積）形成在分子水平上的有機材料的技術使用的，甚至可以在低溫下形成的保護有機發光二極管從水和氧氣的障礙許多層。
當它被施加到顯示器的ALD技術的優勢是，它可以最小化的雜質，并形成薄膜的厚度相同。由于ALD技術實現了薄膜具有較高的質量，保護有機發光二極管由水和氧氣的增加效果。如果無機薄膜的厚度在不同的納米被實現并層壓替代地，總薄膜厚度和水蒸氣傳輸速率可以被最小化。
事實ALD技術可以通過實施多種薄膜編隊克服目前的CVD法的限制也被視為ALD的實力。
ALD的介紹是由于精確的工藝半導體工業中非常活躍。然而顯示器行業一直猶豫不決引入ALD，因為它的成本比PECVD更多有關于應用到大面積和沉積的速度問題。然而實際引進的可能性已經上升為問題都在一個恒定的水平近期得到解決。
“雖然ALD和PECVD不能被泛化相提并論，ALD沉積的速度比PECVD大約慢10倍。”一個行業的代表說。“雖然從低沉積速度和應用低生產率到大面積是最大的障礙，實際上引入ALD技術的可能性是值得思考，如果能形成薄膜的高品質甚至更薄。”
01月07日 18:14
