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三星悄悄啟動(dòng)EUV 1ynm工藝的DRAM內(nèi)存芯片研發(fā)

三星悄悄啟動(dòng)了引入EUV(極紫外光)光刻工藝的DRAM內(nèi)存芯片研發(fā),基于1ynm。報(bào)道稱,三星最快在2020年開始大量投產(chǎn)使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片。
   作為DRAM芯片的龍頭企業(yè),三星目前已經(jīng)能量產(chǎn)10nm級(jí)、最大容量16Gb的LPDDR4內(nèi)存、GDDR5顯存和DDR4內(nèi)存等。
  
  據(jù)Digitimes引述News1 Korea報(bào)道,三星悄悄啟動(dòng)了引入EUV(極紫外光)光刻工藝的DRAM內(nèi)存芯片研發(fā),基于1ynm。
  
  報(bào)道稱,三星最快在2020年開始大量投產(chǎn)使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片。
 
韓媒稱三星已啟動(dòng)EUV 1ynm工藝的DRAM內(nèi)存芯片研發(fā)
 
  EUV光刻目前被三星、臺(tái)積電、Intel等用于7nm工藝節(jié)點(diǎn)上,制造的普遍是AP(應(yīng)用處理器)。三星曾表示,7nm LPP工藝將在今年下半年量產(chǎn),明年上半年推出首款可商用的邏輯芯片。
  
  結(jié)合手頭掌握的資料,高通已經(jīng)確認(rèn)其5G基帶芯片將由三星的7nm代工。
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