不僅TFT-LCD液晶面板近年來持續朝高解析度化發展，三星電子最新Galaxy S-IV采用的AMOLED面板達到Full HD解析度、440 ppi（Pixel Per Inch），也為AMOLED技術立下新里程碑。市場研究機構NPD DisplaySearch認為，這顯示「高解析度」已同時成為當前AMOLED和TFT-LCD面板產品之最重要規格。

然而，如何才能提高TFT-LCD面板和AMOLED面板之解析度？就生產制程來看，各有不同方式。以AMOLED面板來看，NPD DisplaySearch表示，雖然AMOLED面板結構較液晶面板簡單，但其制造技術與程序卻更復雜。目前只有Samsung Display制造技術最成熟，并且已建立起一定程度技術障礙門檻。

據悉，Samsung Display最主要成功關鍵在于其利用不斷開發出OLED自發光畫素排列方式、例如由Strip RGB排列方式一直到Pentile排列方式，均不斷創新，再配合其FMM （Fine Metal Mask）蒸鍍技術，達到AMOLED高解析度。OLED解析度透過不同畫素排列方式而提高之后，接下來達到量產化的最后一關，就只剩下生產流程最佳化、以使良率提高。

根據觀察，三星電子每一個世代Galaxy 智能手持裝置所采用的AMOLED面板，不論是從Galaxy S 到Galaxy S-II、再到Galaxy S-III，或由Galaxy Note到Galaxy Note-II，三星都系不斷的在OLED畫素排列上開發出獨到新技術。近來更以Galaxy S-IV的Full HD解析度、也就是440 ppi（Pixel Per Inch）超高解析度，為AMOLED顯示器高解析度發展立下新里程碑。

至于TFT-LCD面板高解析度化，NPD DisplaySearch認為，要達到高解析度過程包含3大基本要素，分別是高開口率TFT畫素設計（High aperture ratio TFT pixel design）、高精度生產設備（High accurate process equipment）、生產技術最佳化（Optimized the process technologies）等等。

其中，開口率方面，據分析，顯示器在達到高解析度過程中，面板設計必須注意到開口率提升，例如從50%提高到70%。提升開口率時、許多設計元素亦必須變更，并且包含亮度（Brightness）、對比（Contrast Ratio）、訊號干擾（Crosstalk）、面板驅動狀態不穩（Flicker）等狀況也都會因為開口率變化而影響到畫質。因此，廠商在提高開口率同時，也得同時在面板設計上考慮薄膜電晶體的大小（必須再縮小）、玻璃基板上電極布線必須更縮小，以及驅動芯片必須更縮小等等因素。

NPD DisplaySearch強調，平面顯示器FPD市場發展趨勢、正從產能擴張轉向技術提升。盡管目前TFT LCD仍是平面顯示市場技術主流，AMOLED生產技術尚不成熟，不過，對LCD而言，AMOLED具備更高性能，尤其應用于曲面電視等新一代設計上、AMOLED已開始展現其特點。因此，預期LCD和OLED兩項顯示技術未來仍將逐漸展開直接競爭。